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TAN, I. H.; UEDA, M.; DALLAQUA, R. S.; OLIVEIRA, R. M.; ROSSI, J. O. Magnetic field effects on secondary electron emission during ion implantation in a nitrogen plasma. Journal of Applied Physics, v. 100, n. 3, (campo ausente ou vazio: 'pages') Aug 2006. (INPE-14319-PRE/9407). Disponível em: <http://urlib.net/ibi/6qtX3pFwXQZGivnJVY/NeMgA>.
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... como proposto por Tan et al. (2006).
... pode ser encontrada na literatura (TAN et al., 2006).